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発想を洗い直して、半導体を一層クリーンに

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ウェットステーションF-WET FC-3100(バッチ式洗浄装置)

Wet Station F-WET FC-3100 (Batch-type cleaning equipment)

ウェットステーションF-WET FC-3100(バッチ式洗浄装置)

大日本スクリーン製造株式会社

DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.

1 時間に800 枚、電子部品の目に見えない汚れを落とす

「ウエットステーション」は生産力を重視したウェハー洗浄装置。薬液槽・純水槽が並んだ装置で、中にウェハーをまとめて浸し、汚染物を中和したり洗い流して乾燥させます。
洗浄装置に求められるのは、汚染原因となる空気に触れさせないこと、クリーンルームは高価なので場所をとらないことなどが求められます。大日本スクリーンは、窒素ガスで乾燥させる方法や、コンパクト設計で他社製品と大きく差別化することに成功。世界シェアは75%を超えています。

The Wafer Cleaning System “Wet Station” is capable of removing invisible dirt off 800 pieces of electronic parts per hour.

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